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超越三星 臺(tái)積電全球EUV光刻機(jī)份額占比大增:數(shù)量遙遙領(lǐng)先

發(fā)布時(shí)間:2021-05-12 09:24:22  |  來源:TechWeb  

5 月 11 日消息,據(jù)國外媒體報(bào)道,三星似乎在半導(dǎo)體競(jìng)賽中輸給了臺(tái)積電,在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入 7nm 節(jié)點(diǎn)之后,EUV 光刻機(jī)成了關(guān)鍵裝備,現(xiàn)在只有 ASML 一家能夠生產(chǎn) EUV 光刻機(jī)。

其主要客戶只有三家,分別是臺(tái)積電、Intel 和三星。供不應(yīng)求使得 EUV 光刻機(jī)也成為三家廠商爭(zhēng)奪的焦點(diǎn),不過 Intel 的 7nm 工藝要到 2022 年,所以現(xiàn)在有 EUV 生產(chǎn)線的主要是臺(tái)積電、三星兩家。

然而臺(tái)積電的 EUV 光刻機(jī)數(shù)量遙遙領(lǐng)先,據(jù)統(tǒng)計(jì),ASML 近年來一共量產(chǎn)了 100 臺(tái)左右的 EUV 光刻機(jī),其中供應(yīng)給臺(tái)積電的就有 70 臺(tái),占了絕大多數(shù)份額。

2021 年第一季度末,臺(tái)積電的代工制造市場(chǎng)份額比 2019 年第一季度增加了 8 個(gè)百分點(diǎn)。達(dá)到 56% ,超過了三星,其同一季度市場(chǎng)份額下降了 1% 。但與臺(tái)積電在 EUV 光刻機(jī)上的差距并非資本投資決定的,而是臺(tái)積電已經(jīng)獲得了包括蘋果和 AMD 在內(nèi)的主要美國客戶。

另外,三星也由于其他一些原因遭受了挫折,比如它在得克薩斯州的工廠因?yàn)閻毫拥奶鞖鈼l件而暫時(shí)關(guān)閉,以及美國公司似乎由于臺(tái)美關(guān)系而偏愛臺(tái)積電。據(jù)報(bào)道,一些需要半導(dǎo)體代工廠的美國 Fabless (無晶圓廠) 越來越不愿意與三星簽署長(zhǎng)期協(xié)議,因?yàn)轫n國與中國和美國都保持著雙向外交,因此供應(yīng)鏈?zhǔn)艿秸问录蓴_的風(fēng)險(xiǎn)更大。

為此臺(tái)積電無疑會(huì)利用這一優(yōu)勢(shì)進(jìn)一步擴(kuò)大它與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手之間的技術(shù)差距。與此同時(shí),臺(tái)積電希望在 2023 年前投入 1000 億美元,以解決半導(dǎo)體短缺問題,而三星正試圖通過加快建設(shè) P3 工廠來解決這一問題。

關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 EUV光刻機(jī)

 

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